Сортировать по:
Выпуск | Название | |
№ 5 (2018) | ВЛИЯНИЕ БЫСТРОЙ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОДЗАТВОРНОГО ДИЭЛЕКТРИКА НА ПАРАМЕТРЫ МОЩНЫХ ПОЛЕВЫХ МОSFЕТ ТРАНЗИСТОРОВ | Аннотация PDF (Rus) похожие документы |
В. А. Солодуха, В. А. Пилипенко, В. А. Горушко | ||
"... на параметры мощных p - и n -канальных MOSFET транзисторов. Установлено, что данная обработка ..." | ||
№ 8 (2018) | РЕЖИМЫ БЫСТРОЙ ТЕРМООБРАБОТКИ СИСТЕМЫ Рt-Si ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ СИЛИЦИДА ПЛАТИНЫ | Аннотация PDF (Rus) похожие документы |
В. А. Солодуха, В. А. Пилипенко, В. А. Горушко | ||
"... Проведена оценка допустимой неравномерности облучения и разброса температуры по площади пластины ..." | ||
Том 18, № 1 (2020) | ВЛИЯНИЕ ТЕМПЕРАТУРЫ БЫСТРОЙ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ НА ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПЛЕНОК НИКЕЛЯ НА КРЕМНИИ | Аннотация PDF (Rus) похожие документы |
Я. А. Соловьёв, В. А. Пилипенко | ||
"... мкОм×см, а высота барьера Шоттки уменьшается с 0,66 до 0,6 В. При температуре быстрой термообработки ..." | ||
№ 1 (2019) | ВЛИЯНИЕ РЕЖИМОВ ФОРМИРОВАНИЯ СИЛИЦИДА ПЛАТИНЫ МЕТОДОМ БЫСТРОЙ ТЕРМООБРАБОТКИ НА ПАРАМЕТРЫ ДИОДОВ ШОТТКИ | Аннотация PDF (Rus) похожие документы |
В. А. Солодуха, В. А. Пилипенко, В. А. Горушко, В. А. Филипеня | ||
"... высоту барьера с 0,804 до 0,825 В, снизить ток утечки с –4,42·10-6 до –2,85·10-6 А и в 1,25 раза повысить ..." | ||
Том 18, № 4 (2020) | Структура и морфология слоев CrSi2, сформированных при быстрой термообработке | Аннотация PDF (Rus) похожие документы |
Я. А. Соловьёв, В. А. Пилипенко, Пётр Иванович Гайдук | ||
"... кремниевые подложки при комнатной температуре. Быструю термообработку проводили в интервале температур от 200 ..." | ||
Том 21, № 4 (2023) | Механизм формирования фиксированного заряда в слое SiO2, полученном термическим окислением кремния | Аннотация PDF (Rus) похожие документы |
В. А. Пилипенко, А. А. Омельченко | ||
"... зондовой электрометрии – поверхностное распределение этих характеристик до и после быстрой термообработки ..." | ||
Том 20, № 4 (2022) | Исследования электрофизических свойств тонких подзатворных диэлектриков, полученных методом быстрой термообработки | Аннотация PDF (Rus) похожие документы |
Н. С. Ковальчук, А. А. Омельченко, В. А. Пилипенко, В. А. Солодуха, С. А. Демидович, В. В. Колос, В. А. Филипеня, Д. В. Шестовский | ||
"... быстрой термообработки двухстадийным и трехстадийным процессами. Каждая фотонная обработка (стадия ..." | ||
1 - 7 из 7 результатов |
Советы по поиску:
- Поиск ведется с учетом регистра (строчные и прописные буквы различаются)
- Служебные слова (предлоги, союзы и т.п.) игнорируются
- По умолчанию отображаются статьи, содержащие хотя бы одно слово из запроса (то есть предполагается условие OR)
- Чтобы гарантировать, что слово содержится в статье, предварите его знаком +; например, +журнал +мембрана органелла рибосома
- Для поиска статей, содержащих все слова из запроса, объединяйте их с помощью AND; например, клетка AND органелла
- Исключайте слово при помощи знака - (дефис) или NOT; например. клетка -стволовая или клетка NOT стволовая
- Для поиска точной фразы используйте кавычки; например, "бесплатные издания". Совет: используйте кавычки для поиска последовательности иероглифов; например, "中国"
- Используйте круглые скобки для создания сложных запросов; например, архив ((журнал AND конференция) NOT диссертация)