ФОРМИРОВАНИЕ ПОРИСТОГО КРЕМНИЯ МЕТОДОМ ИМПУЛЬСНОГО ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО АНОДИРОВАНИЯ
Аннотация
Об авторах
Е. Б. ЧубенкоБеларусь
С. В. Редько
Беларусь
А. И. Шерстнев
Беларусь
В. А. Петрович
Беларусь
В. П. Бондаренко
Беларусь
Список литературы
1. Masuda H., Yotsuya M., Ishida M. // Jpn. J. Appl. Phys. 1998. Vol. 37. P. L1090-L1092.
2. Grom G.F., Lockwood D.J., McCaffrey J.P. et al. // Nature. 2000. Vol. 407. P. 358-361.
3. Granitzer P., Rumpf K. // Materials. 2010. Vol. 3. P. 943-998.
4. Carstensen J., Christophersen M., Föll H. // Mater. Sci. Eng., B. 2000. Vol. 69-70. P. 23-28.
5. Lehmann V., Stengl R., Luigart A. // Mater. Sci. Eng., B. 2000. Vol. 69-70. P. 11-22.
6. Föll H., Christophersen M., Carstensen J. et al. // Mater. Sci. Eng., R. 2002. Vol. 280. P. 1-49.
7. Cheng X., Feng Z.D., Luo G.F. //Electrochim. acta. 2003. Vol. 48. P. 497-501.
8. Halimaoli A. // EMIS datareview series. 1997. Vol. 18. P. 12-22.
Рецензия
Для цитирования:
Чубенко Е.Б., Редько С.В., Шерстнев А.И., Петрович В.А., Бондаренко В.П. ФОРМИРОВАНИЕ ПОРИСТОГО КРЕМНИЯ МЕТОДОМ ИМПУЛЬСНОГО ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО АНОДИРОВАНИЯ. Доклады БГУИР. 2015;(3):11-17.
For citation:
Chubenko E.B., Redko S.V., Sherstnyov A.I., Petrovich V.A., Bondarenko V.P. FORMATION OF POROUS SILICON IN THE PULSED GALVANOSTATIC MODE. Doklady BGUIR. 2015;(3):11-17. (In Russ.)