Влияние параметров очистки в высокоплотной плазме аргона на морфологию поверхности стеклянных подложек и характеристики эмиссионного спектра
https://doi.org/10.35596/1729-7648-2025-23-6-24-30
Аннотация
Исследовано влияние параметров очистки в высокоплотной индуктивно-связанной плазме аргона на морфологию поверхности стеклянных подложек и характеристики ее оптического эмиссионного спектра. Очистка проводилась в диапазоне мощности высокочастотного источника от 100 до 2000 Вт длительностью до 150 с. Морфология поверхности анализировалась методом атомно-силовой микроскопии, а диагностика плазмы обеспечивалась методом оптической эмиссионной спектроскопии. Установлено, что параметры очистки при мощности разряда 300 Вт и длительности 60 с обеспечивают минимальную шероховатость и удаление загрязнений без повреждения поверхности. Спектральный анализ выявил рост интенсивности атомных линий аргона с увеличением мощности и расхода газа, что отражает рост плотности возбужденных частиц и температуры электронов. Полученные зависимости могут быть использованы для автоматизированного контроля и регулировки режимов плазменной очистки в технологических процессах.
Об авторе
К. Т. Логунов
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь
Беларусь
Логунов Константин Тимофеевич, асп. каф. микро- и наноэлектроники
220013, Минск, ул. П. Бровки, 6
Тел.: +375 17 293-22-63
Список литературы
1. Лучкин, А. Г. Очистка поверхности подложек для нанесения покрытий вакуумно-плазменными методами / А. Г. Лучкин, Г. С. Лучкин // Вестник Казанского технологического университета. 2012. № 15. С. 208–210.
2. Stowers, I. F. Cleaning Optical Surfaces / I. F. Stowers, H. G. Patton // Optical Coatings: Applications and Uses II: Proceedings of the Technical Symposium “East”, 1978, Washington, DC, USA. https://doi.org/10.1117/12.956265.
3. Plasma Cleaning Technology: Mechanisms, Influencing Factors, and Applications / J. Sun [et al.] // IEEE Access. 2025. Vol. 13. P. 37221–37242.
4. Rauschenbach, B. Ion Beam Deposition and Cleaning / B. Rauschenbach // Springer Series in Materials Science. 2022. Vol. 324.
5. Ultra-Precision Surface Finishing by Ion Beam and Plasma Jet Techniques – Status and Outlook / T. Arnold [et al.] // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment. 2010. Vol. 616, Iss. 2–3. P. 147–156.
6. Investigation of the Argon Temperature Modes in ICP-Processing of Glass-Ceramics / I. Gafarov [et al.] // Physics of Plasmas. 2019. Vol. 26, Iss. 4. https://doi.org/10.1063/1.5083022.
7. Kramida, А. Atomic Spectra Database / A. Kramida, Yu. Ralchenko // NIST Standard Reference Database 78, Version 5.12. 2024.
8. Ion Energy Distributions Driven by the Ultra-Low Frequency Electrical Asymmetry Effect in Biased Inductively Coupled Plasmas / D.-S. Zhang [et al.] // Physics of Plasmas. 2025. Vol. 32, Iss. 8. https://doi.org/10.1063/5.0258391.
9. Desorption Lifetimes and Activation Energies Influencing Gas-Surface Interactions and Multiphase Chemical Kinetics / D. A. Knopf [et al.] // Atmospheric Chemistry and Physics. 2024. Vol. 24, Iss. 6. P. 3445–3528. https://doi.org/10.5194/acp-24-3445-2024.
Рецензия
Для цитирования:
Логунов К.Т. Влияние параметров очистки в высокоплотной плазме аргона на морфологию поверхности стеклянных подложек и характеристики эмиссионного спектра. Доклады БГУИР. 2025;23(6):24-30. https://doi.org/10.35596/1729-7648-2025-23-6-24-30
For citation:
Logunov K.T. The Influence of Cleaning Parameters in High-Density Argon Plasma on the Surface Morphology of Glass Substrates and the Characteristics of the Emission Spectrum. Doklady BGUIR. 2025;23(6):24-30. (In Russ.) https://doi.org/10.35596/1729-7648-2025-23-6-24-30
Просмотров:
24
Послать статью по эл. почте 