БИПОЛЯРНЫЙ ТРАНЗИСТОР С ИЗОЛИРОВАННЫМ ЗАТВОРОМ, ИЗГОТОВЛЕННЫЙ В ОБЪЕМНОМ КРЕМНИИ И ПО ТЕХНОЛОГИИ «КРЕМНИЙ НА ИЗОЛЯТОРЕ»
Аннотация
Об авторах
Ш. ИбрагимБеларусь
И. Ю. Ловшенко
Беларусь
В. Р. Стемпицкий
Беларусь
Список литературы
1. Khanna V.K. The Insulated Gate Bipolar Transistor IGBT. Theory and Design. IEEE, 2003.
2. Ловшенко И.Ю., Стемпицкий В.Р., Турцевич А.С. и др. // Докл. БГУИР. 2013. № 4. С. 10-16.
3. Ловшенко И.Ю., Стемпицкий В.Р., Турцевич А.С. и др. // Электроника-Инфо. 2013. № 3. С. 23-26.
4. Artamonov A.M., Nelayev V.V., Shelibak I.M. // Proc. of XI Int. Conf. on the Experience of Designing and Application of CAD Systems in Microelectronics (CADSM’2011). Lviv, 2011. P. 8-9.
5. Hideaki Kawahara, Philip Leland Hower. Lateral insulated gate bipolar transistor / USA Patent № US 2010/0032713 A1.
6. Masato Taki, Masahiro Kawakami, Kiyoharu Hayakawa et al. Lateral SOI semiconducting devices and manufacturing method thereof / US Patent № 7943957 B2.
7. Akio Nakagawa, Norio Yasuhara. High breakdown voltage semiconductor device / USA Patent № 5241210.
8. SILVACO. [Электронный ресурс]. - Режим доступа: http://silvaco.com/. - Дата доступа: 06.12.2016.
9. Управление и оптимизация производственно-технологических процессов / Под ред. Д.В. Гаскарова. СПб., 1995.
10. Попов С., Ларина М. // Вест. НГУ. 2004. № 26. С. 137-141.
11. Hartman, K., Lezki E., Schafer W. Statistische Versuchsplanung und -auswertung in der Stoffwirtschaft. Leipzig, 1974.
Рецензия
Для цитирования:
Ибрагим Ш., Ловшенко И.Ю., Стемпицкий В.Р. БИПОЛЯРНЫЙ ТРАНЗИСТОР С ИЗОЛИРОВАННЫМ ЗАТВОРОМ, ИЗГОТОВЛЕННЫЙ В ОБЪЕМНОМ КРЕМНИИ И ПО ТЕХНОЛОГИИ «КРЕМНИЙ НА ИЗОЛЯТОРЕ». Доклады БГУИР. 2016;(8):89-93.
For citation:
Ibrahim S., Lovshenko I.Yu., Stempitsky V.R. INSULATED-GATE BIPOLAR TRANSISTOR FORMED IN THE BULK SILICON AND USING «SILICON ON INSULATOR» TECHNOLOGY. Doklady BGUIR. 2016;(8):89-93. (In Russ.)