Для цитирования:

Логунов К.Т., Михолап А.А. Влияние режимов очистки в высокоплотной плазме аргона на морфологию и свойства поверхности подложек монокристаллического кремния. Доклады БГУИР. 2026;24(3):44-51. https://doi.org/10.35596/1729-7648-2026-24-3-44-51

For citation:

Logunov K., Mikholap A. The Influence of Cleaning Parameters in High-Density Argon Plasma on the Morphology and Surface Properties of Monocrystalline Silicon Substrates. Doklady BGUIR. 2026;24(3):44-51. (In Russ.) https://doi.org/10.35596/1729-7648-2026-24-3-44-51