Для цитирования:

Захаревич А.А., Ловшенко И.Ю. Влияние внеосевого освещения на оптимизацию технологического процесса проекционной фотолитографии с проектными нормами 250–350 нм. Доклады БГУИР. 2026;24(2):37-45. https://doi.org/10.35596/1729-7648-2026-24-2-37-45

For citation:

Zakharevich A., Lovshenko I. The Impact of Off-Axis Illumination on the Optimization of the 250–350 nm Projection Photolithography Process. Doklady BGUIR. 2026;24(2):37-45. (In Russ.) https://doi.org/10.35596/1729-7648-2026-24-2-37-45