Для цитирования:

Емельянов В.В. Формирование функциональных слоев нитрида кремния селективным плазмохимическим травлением. Доклады БГУИР. 2022;20(1):48-54. https://doi.org/10.35596/1729-7648-2022-20-1-48-54

For citation:

Emelyanov V.V. Formation of Functional Silicon Nitride Layers by Selective Plasmochemical Etching. Doklady BGUIR. 2022;20(1):48-54. (In Russ.) https://doi.org/10.35596/1729-7648-2022-20-1-48-54