Моделирование нагрева кремниевых пластин при быстрой термической обработке на установке «УБТО 1801»
https://doi.org/10.35596/1729-7648-2020-18-7-79-86
Аннотация
Об авторах
Я. А. СоловьёвРоссия
Соловьёв Ярослав Александрович, к.т.н., доцент, заместитель директора Филиала «Транзистор»
220108, г. Минск, ул. Корженевского, 16
В. А. Пилипенко
Россия
д.т.н., профессор, чл.-кор. Национальной академии наук Беларуси, заместитель директора по научному развитию
Минск
В. П. Яковлев
Россия
к.т.н., директор
Минск
Список литературы
1. Doering R., Nishi Y. Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology. 2nd edition. New York: CRC Press; 2008.
2. Пилипенко В.А. Быстрые термообработки в технологии СБИС. Минск: Изд. Центр БГУ; 2004.
3. Nesmelova I.M., Astaf’ev N.I., Kulakova N.A. The optical properties of single-crystal silicon in the 3–5-µm region. Journal of Optical technology. 2012;79(3):191-193. DOI:10.1364/jot.79.00019.
4. Достанко А.П., Аваков С.М., Голосов Д.А. Емельянов В.В., Завадский С.М., Колос В.В., Ланин В.Л., Мадвейко С.И., Мельников С.Н., Никитюк Ю.В., Петлицкий А.Н., Петухов И.Б., Пилипенко В.А., Плебанович В.И., Солодуха В.А., Соколов С.И., Телеш Е.В., Шершнев Е.Б. Инновационные технологии и оборудование микроэлектронного производства. Минск: Беларуская навука; 2020.
5. Солодуха В.А., Пилипенко В.А., Яковлев В.П. Робототизированная установка быстрой термической обработки для создания изделий электронной техники. Доклады БГУИР. 2019;17(4):92-97.
6. Резников А.Н., Резников Л.А. Тепловые процессы в технологических системах. С.-Петербург: Лань, 2016.
7. Rozenboom F. Advavced in Rapid Thermal and Integrated Processing. Springer Netherlands; 1996.
8. Шелудяк Ю.Е. Кашпоров Л.Я., Малинин Л.А., Цалков В.Н. Теплофизические свойства компонентов горючих систем. Москва: НПО «Информ ТЭИ»; 1992.
9. Avallone E.A., Baumeister T., Sadegh A.M. Marks’ Standard Handbook for Mechanical Engineers. 11th edition. New York: McGraw-Hill; 2007.
Рецензия
Для цитирования:
Соловьёв Я.А., Пилипенко В.А., Яковлев В.П. Моделирование нагрева кремниевых пластин при быстрой термической обработке на установке «УБТО 1801». Доклады БГУИР. 2020;18(7):79-86. https://doi.org/10.35596/1729-7648-2020-18-7-79-86
For citation:
Solovjov J.A., Pilipenko V.A., Yakovlev V.P. Simulation of silicon wafers heating during rapid thermal processing using “UBTO 1801” unit. Doklady BGUIR. 2020;18(7):79-86. (In Russ.) https://doi.org/10.35596/1729-7648-2020-18-7-79-86