Preview

Доклады БГУИР

Расширенный поиск

ОСОБЕННОСТИ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ НИКЕЛЯ В МЕЗОПОРИСТЫЙ КРЕМНИЙ

Полный текст:

Аннотация

Методом электрохимического анодирования в растворе фтористоводородной кислоты на поверхности монокристаллических кремниевых пластин сформированы слои мезопористого кремния. Электрохимическим методом в пористый кремний проведено осаждение никеля. Исследована зависимость поверхностного потенциала мезопористого кремния от времени осаждения никеля. Сканирующая электронная микроскопия использована для изучения структуры полученных образцов. Установлено, что на начальных стадиях осаждения в нижней части пористого слоя происходит формирование зерен никеля размерами до 30-60 нм. В процессе осаждения размеры зерен увеличиваются до 40-70 нм и увеличивается их количество. При больших временах осаждения начинается рост зерен никеля на поверхности пластин, причем осаждаемый слой никеля достаточно плотен, а размеры зерен никеля в этом слое не превышают 10 нм. Показано, что, осуществляя контроль величины поверхностного потенциала в процессе электрохимического осаждения, можно определить момент полного заполнения каналов пор никелем и начала роста сплошной пленки на поверхности образца.

Об авторах

А. Л. Долгий
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь


С. Л. Прищепа
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь


В. А. Петрович
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь


В. П. Бондаренко
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь


Список литературы

1. Liu K., Nagodawithana K., Searson P.C. et al. // Phys. Rev. B.1995. Vol. 51, P. 7381.

2. Tsoi M., Sun J.Z., Rooks M.J. et al. // Phys. Rev. B. 2004. Vol. 69, 100406(R).

3. Dinner R.B., Robinson A.P., Wimbush S.C. et al. // Superconductor Science and Technology. 2011. Vol. 24. P. 055017.

4. Zuxin Ye, Haidong Liu, Zhiping Luo et al. // Nanotechnology. 2009. Vol. 20. P. 045704.

5. Harraz F.A., Sakka T., Ogata Y.H. // Physica Status Solidi. 2003. Vol. 197. P. 51.

6. Rumpf K., Granitzer P., Pölt P. et al. // Thin Solid Films. 2006. Vol. 515. P. 716.

7. Granitzer P., Rumpf K., Pölt P. et al. // Journal of Magnetism and Magnetic Materials. 2007. Vol. 310. P. 838.

8. Ogata Y.H., Kobayashi K., Motoyama M. // Current Opinion in Solid State and Materials Science. 2006. Vol. 10. P. 163.

9. Резнев А.А., Пустовалов А.А., Максимов Е.М. и др. // Нано- и микросистемная техника. 2009. №3. С. 14.

10. Русецкий М.С., Казючиц Н.М., Баев В.Г. и др. // Письма ЖТФ. 2011. Т. 37 (9). С. 1.


Для цитирования:


Долгий А.Л., Прищепа С.Л., Петрович В.А., Бондаренко В.П. ОСОБЕННОСТИ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ НИКЕЛЯ В МЕЗОПОРИСТЫЙ КРЕМНИЙ. Доклады БГУИР. 2012;(1):76-82.

For citation:


Dolgiy A.L., Prischepa S.L., Petrovich V.A., Bondarenko V.P. FEATURES OF ELECTROCHEMICAL DEPOSITION OF NICKEL IN MESOPOROUS SILICON. Doklady BGUIR. 2012;(1):76-82. (In Russ.)

Просмотров: 44


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1729-7648 (Print)
ISSN 2708-0382 (Online)