ФОРМИРОВАНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК ОКСИДА ЦИНКА КОМБИНИРОВАННЫМ МЕТОДОМ ГИДРОТЕРМАЛЬНОГО И ПОСЛОЙНОГО АТОМНОГО ОСАЖДЕНИЯ
Аннотация
Исследованы свойства и показана возможность получения тонких сплошных пленок оксида цинка химическим гидротермальным методом на поверхности подложек монокристаллического кремния с затравочным слоем оксида цинка, сформированным методом послойного атомного осаждения. Полученные гибридные структуры из оксида цинка состоят из вертикально ориентированных кристаллитов оксида цинка, образующих компактную сплошную пленку. Проведены измерения оптических и электрических свойств полученных пленок. Показано, что пленки оксида цинка демонстрируют фотолюминесценцию в видимом диапазоне электромагнитного спектра с максимумом на длине волны 600-700 нм, связанную с наличием структурных дефектов, и в ближнем УФ-диапазоне с максимумом около 380 нм, связанную с излучательной межзонной рекомбинацией. Удельное сопротивление полученных пленок составляет 0,7 Ом·см.
Об авторах
Е. Б. Чубенко
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь
Беларусь
В. П. Бондаренко
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь
Беларусь
В. А. Пилипенко
НПЦ «Белмикросистемы» ОАО «Интеграл»
Беларусь
Беларусь
К. .. Топалли
Department of Electrical and Electronics Engineering, Bilkent University
Беларусь
Беларусь
А. К. Окяй
Department of Electrical and Electronics Engineering, Bilkent University
Беларусь
Беларусь
Список литературы
1. Özgür Ü., Alivov Ya.I., Liu C. et al. // Appl. Phys. Rev. 2005. Vol. 98. P. 1-103.
2. Norton D.P., Heo Y.W., Ivill M.P. et al. // Mater. Today. 2004. Vol. 7. P. 34-40.
3. Ohta H., Hosono H. // Mater. Today. 2004. Vol. 7. P. 42-51.
4. Wang Z.L. // Materials Today. 2004. Vol. 7. P. 26-33.
5. Lee K.M., Lai C.W., Ngai K.S. et al. // Water Res. Vol. 88. P. 428-448.
6. Lincot D. // Thin Solid Films. 2005. Vol. 487. P. 40-48.
7. Baruah S., Dutta J. // Sci. Technol. Adv. Mater. 2009. Vol. 10. P. 013001.
8. Чубенко Е.Б., Редько С.В., Петрович В.А. и др. // Докл. БГУИР. 2016. № 2 (96). С. 18-24.
9. Singh R.G., Singh F., Agarval V. et al. // Phys. D: Appl. Phys. 2007. Vol. 40. P. 3090-3093.
10. Zhang W.C., Wu X.L., Chen H.T. et al. // J. Appl. Phys. 2008. Vol. 103. P. 093718.
Рецензия
Для цитирования:
Чубенко Е.Б., Бондаренко В.П., Пилипенко В.А., Топалли К..., Окяй А.К. ФОРМИРОВАНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК ОКСИДА ЦИНКА КОМБИНИРОВАННЫМ МЕТОДОМ ГИДРОТЕРМАЛЬНОГО И ПОСЛОЙНОГО АТОМНОГО ОСАЖДЕНИЯ. Доклады БГУИР. 2016;(4):28-34.
For citation:
Chubenko E.B., Bondarenko V.P., Pilipenko V.A., Topalli K..., Okyay A.K. Formation OF ZINC OXIDE THIN FILMS BY COMBINED METHOD OF HYDROTHERMAL AND LAYERED ATOM DEPOSITION. Doklady BGUIR. 2016;(4):28-34. (In Russ.)
Просмотров: 446
Послать статью по эл. почте 