Для цитирования:

Пилипенко В.А., Солодуха В.А., Сергейчик А.А., Шестовский Д.В. Влияние рекристаллизации механически нарушенного слоя с рабочей стороны кремниевой пластины на электрические параметры КМОП интегральных микросхем. Доклады БГУИР. 2024;22(3):21-27. https://doi.org/10.35596/1729-7648-2024-22-3-21-27

For citation:

Pilipenka U.A., Saladukha V.A., Siarheichyk H.A., Shestouski D.U. Impact Produced by Recrystallization of Mechanically Destroyed Layer on Planar Side of Silicon Wafer Upon Electrical Parameters of CMOS Microcircuits. Doklady BGUIR. 2024;22(3):21-27. (In Russ.) https://doi.org/10.35596/1729-7648-2024-22-3-21-27