Получение многокомпонентных покрытий стабильного состава для экранов электромагнитного излучения

Рассмотрены процессы формирования покрытий систем Cu–Ni и Ag–Cu стабильного элементного состава методом электронно-лучевого испарения. Показано, что в зоне воздействия электронного луча на помещенный в тигель слиток при суммарном давлении паров элементов сплава Σp больше давления под колпаком установки происходит кипение расплава, а в примыкающей к зоне расплава наружной зоне идет процесс сублимации твердого сплава. Исследованы микрорельеф и элементный состав поверхностного слоя слитка сплава Cu–Ni в зонах испарения и сублимации, а также элементный состав осаждаемых при этом покрытий. Показано, что наиболее приемлемым способом получения покрытий системы Cu–Ni стабильного элементного состава является одновременное электронно-лучевое испарение меди и никеля из двух тиглей. Рассчитан и экспериментально проверен азеотропный состав сплава системы Ag–Cu. Результаты исследований использованы при изготовлении многослойных экранов электромагнитного излучения.

1. Зеленин, В. А. Силицидные сплавы азеотропных и эвтектических составов для катодов и мишеней вакуумно-дуговых и магнетронных установок / В. А. Зеленин // Современные методы и технологии создания и обработки материалов: сб. науч. тр. в 2 кн. Кн. 1. Новые технологии и материалы; редкол.: В. Г. Залесский (гл. ред.) [и др.]. Минск: ФТИ НАН Беларуси, 2021. С. 208–223.

2. Оптически прозрачные электромагнитные экраны / А. Т. Волочко [и др.] // Доклады БГУИР. 2015. № 3. С. 53–57.

3. Зеленин, В. А. Высокостабильные элементы и структуры для изделий наноэлектроники / В. А. Зеленин. Минск: Белар. навука, 2022. 290 с.

4. Несмеянов, А. Н. Давление пара химических элементов / А. Н. Несмеянов. М.: Изд. АН СССР, 1961. 397 с.

5. Гладинов, А. Д. Расчет концентраций и температур плавления высококремнистых эвтектик в системах РЗМ–Si / А. Д. Гладинов // Литье и металлургия 2019: сб. науч. работ II Междунар. науч.-практ. интернет-конф. студ. и магистр., 16–17 окт. 2019 г.; ред. А. П. Божок, И. А. Иванов. Минск: БНТУ, 2019. С. 62–63.

6. Влияние режимов формирования на структуру тонких покрытий, используемых в многослойных экранах ЭМИ / Е. О. Нарушко [и др.] // Современные методы и технологии создания и обработки материалов: сб. науч. тр. ФТИ НАН Беларуси. Минск, 2019. С. 60–66.

7. Защитное экранирующее покрытие дисплея: пат. 23414 Респ. Беларусь, МПК G 12B 17/02, H 01J 29/88, C 03C 17/34, H 01J 11/44 // А. Т. Волочко, В. А. Зеленин, Е. О. Нарушко, Г. В. Марков; заявитель Физико-технический институт НАН Беларуси», № а 20190321. заявл. 14.11.2019; опубл. 30.06.2021 // Афiцыйны бюл. / Нац. цэнтр iнтэлектуал. уласнасцi. С. 10.

8. Экранирующее покрытие дисплея: пат. 23435 Респ. Беларусь, МПК G 12B 17/02, H01J 29/88, C 03C 17/34, H 01J 11/44 / А. Т. Волочко, В. А. Зеленин, Е. О. Нарушко, Г. В. Марков; заявитель Физико-технический институт НАН Беларуси; № а 20190320, заявл. 14.11.2019; опубл. 30.06.2021 // Афiцыйны бюл. / Нац. цэнтр iнтэлектуал. уласнасцi. 2021. С. 6.