<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">bsuir</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Доклады БГУИР</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Doklady BGUIR</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">1729-7648</issn><issn pub-type="epub">2708-0382</issn><publisher><publisher-name>БГУИР</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="doi">10.35596/1729-7648-2023-21-4-19-27</article-id><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">bsuir-3676</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>ЭЛЕКТРОНИКА, РАДИОФИЗИКА, РАДИОТЕХНИКА, ИНФОРМАТИКА</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="en"><subject>ELECTRONICS, RADIOPHYSICS, RADIOENGINEERING, INFORMATICS</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>Получение многокомпонентных покрытий стабильного состава для экранов электромагнитного излучения</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Obtaining Multicomponent Coatings of a Stable Composition for Electromagnetic Radiation Screens</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Зеленин</surname><given-names>В. А.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Zelenin</surname><given-names>V. A.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Доктор технических наук, доцент, главный научный сотрудник Физико-технического института Национальной академии наук Беларуси</p><p>Минск</p></bio><bio xml:lang="en"><p>Victor A. Zelenin - Dr. of Sci. (Tech.), Associate Professor, Principal Researcher.</p><p>Minsk</p></bio><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Нарушко</surname><given-names>Е. О.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Narushko</surname><given-names>E. O.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Нарушко Елена Олеговна - кандидат технических наук, инженер-технолог.</p><p>220114, Минск, ул. Академика Высоцкого, 3–26. Тел.: +375 29 345-86-72</p></bio><bio xml:lang="en"><p>Narushko Elena Olegovna - Cand. of Sci., Process Engineer.</p><p>220114, Minsk, Academician Vysotsky St., 3–26. Tel.: +375 29 345-86-72</p></bio><email xlink:type="simple">lena-narushko@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-2"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Гладинов</surname><given-names>А. Д.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Gladinov</surname><given-names>A. D.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Младший научный сотрудник.</p><p>Минск</p></bio><bio xml:lang="en"><p>Anton D. Gladinov - Junior Researcher.</p><p>Minsk</p></bio><xref ref-type="aff" rid="aff-3"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff-1"><aff xml:lang="ru"><institution>Физико-технический институт НАН Беларуси</institution></aff><aff xml:lang="en"><institution>Physical-Technical Institute of the National Academy of Sciences of Belarus</institution></aff></aff-alternatives><aff-alternatives id="aff-2"><aff xml:lang="ru"><institution>ОАО «Пеленг»</institution></aff><aff xml:lang="en"><institution>Joint-Stock Company “Peleng”</institution></aff></aff-alternatives><aff-alternatives id="aff-3"><aff xml:lang="ru"><institution>ОАО «Приборостроительный завод Оптрон»</institution></aff><aff xml:lang="en"><institution>Joint-Stock Company “Instrument-Making Plant Optron”</institution></aff></aff-alternatives><pub-date pub-type="collection"><year>2023</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>28</day><month>08</month><year>2023</year></pub-date><volume>21</volume><issue>4</issue><fpage>19</fpage><lpage>27</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Зеленин В.А., Нарушко Е.О., Гладинов А.Д., 2023</copyright-statement><copyright-year>2023</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Зеленин В.А., Нарушко Е.О., Гладинов А.Д.</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Zelenin V.A., Narushko E.O., Gladinov A.D.</copyright-holder><license xml:lang="ru" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.</license-p></license><license xml:lang="en" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/3676">https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/3676</self-uri><abstract><p>Рассмотрены процессы формирования покрытий систем Cu–Ni и Ag–Cu стабильного элементного состава методом электронно-лучевого испарения. Показано, что в зоне воздействия электронного луча на помещенный в тигель слиток при суммарном давлении паров элементов сплава Σp больше давления под колпаком установки происходит кипение расплава, а в примыкающей к зоне расплава наружной зоне идет процесс сублимации твердого сплава. Исследованы микрорельеф и элементный состав поверхностного слоя слитка сплава Cu–Ni в зонах испарения и сублимации, а также элементный состав осаждаемых при этом покрытий. Показано, что наиболее приемлемым способом получения покрытий системы Cu–Ni стабильного элементного состава является одновременное электронно-лучевое испарение меди и никеля из двух тиглей. Рассчитан и экспериментально проверен азеотропный состав сплава системы Ag–Cu. Результаты исследований использованы при изготовлении многослойных экранов электромагнитного излучения.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>The formation processes of coatings of Cu–Ni and Ag–Cu systems with a stable elemental composition by the method of electron-beam evaporation are considered. It is shown that in the zone of action of the electron beam on the ingot placed in the crucible at the total vapor pressure of the alloy elements Σp above the pressure under the cap of the installation, the melt boils, and in the outer zone adjacent to the melt zone, the process of sublimation of the hard alloy occurs. The microrelief and elemental composition of the surface layer of the Cu–Ni alloy ingot in the zones of evaporation and sublimation, as well as the elemental composition of the coatings deposited in this case, have been studied. It is shown that the most acceptable way to obtain coatings of the Cu–Ni system with a stable elemental composition is the simultaneous electron-beam evaporation of copper and nickel from two crucibles. The azeotropic composition of the alloy of the Ag–Cu system was calculated and experimentally verified. The research results are used in the manufacture of multilayered screens of electromagnetic radiation.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>покрытия систем Cu–Ni и Ag–Cu</kwd><kwd>электронно-лучевое испарение</kwd><kwd>сублимация</kwd><kwd>давление паров</kwd><kwd>стабильность элементного состава</kwd><kwd>экраны электромагнитного излучения</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="en"><kwd>coatings of Cu–Ni and Ag–Cu systems</kwd><kwd>electron-beam evaporation</kwd><kwd>sublimation</kwd><kwd>vapor pressure</kwd><kwd>elemental composition stability</kwd><kwd>electromagnetic radiation shields</kwd></kwd-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Зеленин, В. А. Силицидные сплавы азеотропных и эвтектических составов для катодов и мишеней вакуумно-дуговых и магнетронных установок / В. А. Зеленин // Современные методы и технологии создания и обработки материалов: сб. науч. тр. в 2 кн. Кн. 1. Новые технологии и материалы; редкол.: В. Г. Залесский (гл. ред.) [и др.]. Минск: ФТИ НАН Беларуси, 2021. С. 208–223.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Zelenin V. A. (2021) Silicide Alloys of Azeotropic and Eutectic Compositions for Cathodes and Targets of Vacuum-Arc and Magnetron Installations. Modern Methods and Technologies for the Creation and Processing of Materials. Sat. Scientific Works. In 2 Books. Book 1. New Technologies and Materials. Minsk, PhysicalTechnical Institute of the National Academy of Sciences of Belarus Publ. 208–223 (in Russian).</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Оптически прозрачные электромагнитные экраны / А. Т. Волочко [и др.] // Доклады БГУИР. 2015. № 3. С. 53–57.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Volochko A. T., Zelenin V. A., Markov G. V., Narushko E. O. (2015) Optically Transparent Electromagnetic Screens. Doklady BGUIR. (3), 53–57 (in Russian).</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Зеленин, В. А. Высокостабильные элементы и структуры для изделий наноэлектроники / В. А. Зеленин. Минск: Белар. навука, 2022. 290 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Zelenin V. A. (2022) Highly Stable Elements and Structures for Nanoelectronic Products. Minsk, Belarusian Science Publ. 290 (in Russian).</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Несмеянов, А. Н. Давление пара химических элементов / А. Н. Несмеянов. М.: Изд. АН СССР, 1961. 397 с.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Nesmeyanov A. N. (1961) Vapor Pressure of Chemical Elements. Moscow, Publishing House of the Academy of Sciences of the USSR. 397 (in Russian).</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Гладинов, А. Д. Расчет концентраций и температур плавления высококремнистых эвтектик в системах РЗМ–Si / А. Д. Гладинов // Литье и металлургия 2019: сб. науч. работ II Междунар. науч.-практ. интернет-конф. студ. и магистр., 16–17 окт. 2019 г.; ред. А. П. Божок, И. А. Иванов. Минск: БНТУ, 2019. С. 62–63.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Gladinov A. D., Zelenin V. A. (2019) Calculation of Concentrations and Melting Temperatures of HighSilicon Eutectics in the РЗМ–Si Systems. Casting and Metallurgy, Collection of Scientific Works of the II International Scientific and Practical Internet-Conference Among Students and Master’s Students, Oct. 16–17, 2019. Minsk, Belarusian National Technical University Publ. 62–63 (in Russian).</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Влияние режимов формирования на структуру тонких покрытий, используемых в многослойных экранах ЭМИ / Е. О. Нарушко [и др.] // Современные методы и технологии создания и обработки материалов: сб. науч. тр. ФТИ НАН Беларуси. Минск, 2019. С. 60–66.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Narushko E. O., Volochko A. T., Zelenin V. A., Markov G. V. (2019) Influence of Formation Modes on the Structure of Thin Coatings Used in EMI Multilayer Screens. Modern Methods and Technologies for the Creation and Processing of Materials, Sat. Scientific Papers Physical-Technical Institute of the National Academy of Sciences of Belarus. Minsk. 60–66 (in Russian).</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Защитное экранирующее покрытие дисплея: пат. 23414 Респ. Беларусь, МПК G 12B 17/02, H 01J 29/88, C 03C 17/34, H 01J 11/44 // А. Т. Волочко, В. А. Зеленин, Е. О. Нарушко, Г. В. Марков; заявитель Физико-технический институт НАН Беларуси», № а 20190321. заявл. 14.11.2019; опубл. 30.06.2021 // Афiцыйны бюл. / Нац. цэнтр iнтэлектуал. уласнасцi. С. 10.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Volochko A. T., Zelenin V. A., Narushko E. O., Markov G. V. (2019) Protective Screening Coating of the Display. Patent 23414 Rep. Belarus, IPC G 12B 17/02, H 01J 29/88, C 03C 17/34, H 01J 11/44. Applicant Physical-Technical Institute of the National Academy of Sciences of Belarus, No a 20190321, App. 14.11.2019, Publ. 30.06.2021. Afitsyyny Bul., National Center Intellectual. Ulasnastsi. 10 (in Russian).</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Экранирующее покрытие дисплея: пат. 23435 Респ. Беларусь, МПК G 12B 17/02, H01J 29/88, C 03C 17/34, H 01J 11/44 / А. Т. Волочко, В. А. Зеленин, Е. О. Нарушко, Г. В. Марков; заявитель Физико-технический институт НАН Беларуси; № а 20190320, заявл. 14.11.2019; опубл. 30.06.2021 // Афiцыйны бюл. / Нац. цэнтр iнтэлектуал. уласнасцi. 2021. С. 6.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Volochko A. T., Zelenin V. A., Narushko E. O., Markov G. V. (2021) Shielding Display Coating. US Patent 23435 Rep. Belarus, IPC G 12B 17/02, H01J 29/88, C 03C 17/34, H 01J 11/44. Applicant Physical-Technical Institute of the National Academy of Sciences of Belarus, No a 20190320, App. 14.11.2019. Publ. 30.06.2021. Afitsyyny Bul., National Center intellectual. Ulasnastsi. 6 (in Russian).</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
