ПОРИСТОЕ АНОДИРОВАНИЕ АЛЮМИНИЕВЫХ ПЛЕНОК С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ МАСКИ ПРИ ВЫСОКИХ НАПРЯЖЕНИЯХ ФОРМОВКИ
Аннотация
Об авторе
С. К. ЛазарукБеларусь
Список литературы
1. Юнг Л. Анодные оксидные пленки. Ленинград, 1961
2. Chu S., Wada K., Inoue S. et. al. // Adv. Mater. 2005. Vol. 17. P. 2115.
3. Lazarouk S., Sasinovich D., Borisenko V. et. al. // J. of Applied Physics. 2010. Vol. 107. P. 033527-1-5.
4. Lazarouk S., Baranov I, Maello G. et. al. // J. of Electrochemical Society. 1994. Vol. 141. P. 2556-2559.
5. Lazarouk S., Katsouba S., Leshok A. et. al.// Microelectronic Engineering. 2000. Vol. 50, № 1-4. P. 321-327.
6. Lazarouk S., Katsouba S., Demianovich A. et. al. // Solid-State Electronics. 2000. Vol. 44. P. 815-818.
7. Lee W// Corrosion 2010. Vol. 62. № 6. P. 57-63.
Рецензия
Для цитирования:
Лазарук С.К. ПОРИСТОЕ АНОДИРОВАНИЕ АЛЮМИНИЕВЫХ ПЛЕНОК С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ МАСКИ ПРИ ВЫСОКИХ НАПРЯЖЕНИЯХ ФОРМОВКИ. Доклады БГУИР. 2013;(3):52-57.
For citation:
Lazarouk S.K. POROUS ANODISATION OF ALUMINUM FILMS WITH PHOTOLITOGRAPHIC MASK UNDER HIGH FORMING VOLTAGES. Doklady BGUIR. 2013;(3):52-57. (In Russ.)