Preview

Доклады БГУИР

Расширенный поиск

ВЛИЯНИЕ поверхностно-активных веществ НА СТРУКТУРУ ТОЛСТЫХ ПЛЕНОК ИЗ СИЛИКАТНОГО СТЕКЛА И НАНОСТРУКТУРИРОВАННОГО TiO2

Аннотация

Экспериментально исследовано влияние добавок поверхностно-активных веществ (ПАВ) на пористость толстых пленок, формируемых на стеклянных подложках из пастообразных композиций, включающих в качестве основных компонентов жидкое силикатное стекло (75 масс.%) и порошок наноструктурированного диоксида титана (25 масс.%). Для повышения пористости пленок наиболее эффективно использование в качестве добавок к базовой композиции поверхностно-активных веществ. Для формирования толстых пленок из таких композиций, нанесенных на стеклянные подложки, достаточной является их термообработка при 200-400 °С в течение 20 мин на воздухе.

Об авторах

К. В. Ашуркевич
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь


И. А. Николаенко
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь


В. Е. Борисенко
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь


Список литературы

1. Carp O., Huisman C. L. , Reller. A. / Photoinduced reactivity of titanium oxide Prog. Sol. State Chem. 2004. 32, 33-177.

2. Vivero-Escoto1 J. L. , Chiang Y-D. , Wu K. C-W. et. al. Recent progress in mesoporous titania materials: adjusting morphology for innovative applications, Sci. Technol. Adv. Mater. 2012. 13, 013003. P. 9

3. Ашуркевич К.В., Николаенко И.А., Борисенко В.Е. // Докл. БГУИР. 2012. № 6 (63). С. 51-57.


Рецензия

Для цитирования:


Ашуркевич К.В., Николаенко И.А., Борисенко В.Е. ВЛИЯНИЕ поверхностно-активных веществ НА СТРУКТУРУ ТОЛСТЫХ ПЛЕНОК ИЗ СИЛИКАТНОГО СТЕКЛА И НАНОСТРУКТУРИРОВАННОГО TiO2. Доклады БГУИР. 2013;(2):10-13.

For citation:


Ashurkevich K.V., Nikolaenko I.A., Borisenko V.E. EFFECT OF INTRODUCTION SAS ON THE STRUCTURE OF THICK FILMS OF SILICATE GLASS AND NANOSTRUCTURED TiO2. Doklady BGUIR. 2013;(2):10-13. (In Russ.)

Просмотров: 356


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1729-7648 (Print)
ISSN 2708-0382 (Online)