Preview

Доклады БГУИР

Расширенный поиск

НИЗКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ПЛАЗМА МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА

Полный текст:

Аннотация

В статье исследуется низкотемпературная плазма магнетронного разряда устройства, используемого для синтеза диэлектрических пленок  реактивным катодным распылением [1]. Целью исследования является определение температурных характеристик частиц плазмы и распыленного вещества, а также механизма образования химической связи между распыленными атомами и молекулами активного газа. Исследование состава и энергетических параметров плазмы, а также химический состав полученных при распылении частиц вещества, проведен спектроскопическим методом. Количественный состав определялся масс-спектрометром для определения состава распыленных частиц.

Об авторах

И. Ш. Невлюдов
Харьковский национальный университет радиоэлектроники
Украина
д.т.н.,  профессор,  заведующий кафедрой  компьютерно-интегрированных  технологий, автоматизации  и  мехатроники


В. Н. Гурин
Харьковский национальный университет радиоэлектроники
Украина
д.т.н., проф., профессор кафедры компьютерно-интегрированных технологий, автоматизации и мехатроники


Д. В. Гурин
Харьковский национальный университет радиоэлектроники
Украина

Гурин Дмитрий Валерьевич - аспирант кафедры компьютерно-интегрированных технологий, автоматизации и мехатроники

61166, Украина, Харьков, пр. Науки, 14

тел. +38-057-702-14-86



К. Л. Хрусталев
Харьковский национальный университет радиоэлектроники
Украина
к.т.н., старший преподаватель кафедры компьютерно-интегрированных технологий, автоматизации и мехатроники


Список литературы

1. Достанко А.П. Технологические процессы и системы в микроэлектронике: плазменные, электронно-ионно-лучевые, ультразвуковые. Минск: Бестпринт, 2009. 199 с.

2. Гурін Д.В. Аналіз методів отримання наноструктурованих діелектричних плівок // Технология приборосроения. 2016. Вып. 3. 7 с.

3. Taccogna F., Dilecce G. Non-equilibrium in low-temperature plasmas // Eur. Phys. J. D (2016) 70: 251. https://doi.org/10.1140/epjd/e2016-70474-0.

4. Huges H.L., Baxter R.D., Phillips B. Dependence of MOS device radiation sensitivity on impurities // IEEE. 1972. № 5–19. P. 256–263.

5. Гольдфарб В.М. Оптическое излучение / Очерки физики и химии низкотемпературной плазмы. М.: Наука, 1971. С. 169–233.

6. Рогов А.В., Бурмакинский И.Ю. Исследование магнетронного разряда постоянного тока методом подвижного сеточного анода // Журнал технической физики. 2004. Т. 74, вып. 4. С. 27–30.

7. Гурин В.Н. Влияние проникающей плазмы на свойства диэлектрика и границы раздела полупроводникдиэлектрик при реактивном катодном распылении // Радиоэлектроника и информатика. 2001. № 4 (17). С. 29–32.


Для цитирования:


Невлюдов И.Ш., Гурин В.Н., Гурин Д.В., Хрусталев К.Л. НИЗКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ПЛАЗМА МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА. Доклады БГУИР. 2018;(8):93-100.

For citation:


Nevliudov I.S., Gurin D.V., Gurin V.N., Khrustalev K.L. Low-temperature plasma magnetron discharge. Doklady BGUIR. 2018;(8):93-100. (In Russ.)

Просмотров: 65


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1729-7648 (Print)
ISSN 2708-0382 (Online)