bsuirДоклады БГУИРDoklady BGUIR1729-76482708-0382БГУИРbsuir-1138Research ArticleЭЛЕКТРОНИКА, РАДИОФИЗИКА, РАДИОТЕХНИКА, ИНФОРМАТИКАELECTRONICS, RADIOPHYSICS, RADIOENGINEERING, INFORMATICSНИЗКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ПЛАЗМА МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДАLow-temperature plasma magnetron dischargeНевлюдовИ. Ш.NevliudovI. Sh.

д.т.н.,  профессор,  заведующий кафедрой  компьютерно-интегрированных  технологий, автоматизации  и  мехатроники

D.Sci, professor, head of computer-integrated technologies, automation and mechatronics department

ГуринВ. Н.GurinD. V.

д.т.н., проф., профессор кафедры компьютерно-интегрированных технологий, автоматизации и мехатроники

D.Sci, professor of computer-integrated technologies, automation and mechatronics department

ГуринД. В.GurinV. N.

Гурин Дмитрий Валерьевич - аспирант кафедры компьютерно-интегрированных технологий, автоматизации и мехатроники

61166, Украина, Харьков, пр. Науки, 14

тел. +38-057-702-14-86

Gurin Dmytro Valer'evich - PG student of computer-integrated technologies, automation and mechatronics department

61166, Ukraine, Kharkiv, Science ave., 14

tel. +38-057-702-14-86

dmytro.gurin@nure.uaХрусталевК. Л.KhrustalevK. L.

к.т.н., старший преподаватель кафедры компьютерно-интегрированных технологий, автоматизации и мехатроники

PhD, senior lecturer of computerintegrated technologies, automation and mechatronics department

Харьковский национальный университет радиоэлектроникиKharkiv national university of radioelectronics2018060620190893100Copyright © Невлюдов И.Ш., Гурин В.Н., Гурин Д.В., Хрусталев К.Л., 20192019Невлюдов И.Ш., Гурин В.Н., Гурин Д.В., Хрусталев К.Л.Nevliudov I.S., Gurin D.V., Gurin V.N., Khrustalev K.L.Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/1138

В статье исследуется низкотемпературная плазма магнетронного разряда устройства, используемого для синтеза диэлектрических пленок  реактивным катодным распылением [1]. Целью исследования является определение температурных характеристик частиц плазмы и распыленного вещества, а также механизма образования химической связи между распыленными атомами и молекулами активного газа. Исследование состава и энергетических параметров плазмы, а также химический состав полученных при распылении частиц вещества, проведен спектроскопическим методом. Количественный состав определялся масс-спектрометром для определения состава распыленных частиц.

The article investigates a low-temperature plasma of the magnetron discharge of a device used for the synthesis of dielectric films by reactive cathode sputtering. The aim of the study is to determine the temperature characteristics of plasma particles and a sputtered substance, as well as the mechanism for the formation of a chemical bond between sputtered atoms and active gas molecules. A study of the composition and energy parameters of the plasma, as well as the chemical composition of the particles obtained by sputtering, was carried out by a spectroscopic method. The quantitative composition was determined by a mass spectrometer to determine the composition of the sputtered particles.

магнетронная камерамасс-спектрометрияазотная плазмараспылениеаргоновая плазмаmagnetron chambermass spectrometrynitrogen plasmaatomizationargon plasmaReferencesДостанко А.П. Технологические процессы и системы в микроэлектронике: плазменные, электронно-ионно-лучевые, ультразвуковые. Минск: Бестпринт, 2009. 199 с.Dostanko A.P. Tehnologicheskie processy i sistemy v mikrojelektronike: plazmennye, jelektronno-ionnoluchevye, ul'trazvukovye. Minsk: Bestprint, 2009. 199 s. (in Russ.)Гурін Д.В. Аналіз методів отримання наноструктурованих діелектричних плівок // Технология приборосроения. 2016. Вып. 3. 7 с.Gurіn D.V. Analіz metodіv otrimannja nanostrukturovanih dіelektrichnih plіvok // Tehnologija priborosroenija. 2016. Vyp. 3. 7 s. (in Russ.)Taccogna F., Dilecce G. Non-equilibrium in low-temperature plasmas // Eur. Phys. J. D (2016) 70: 251. https://doi.org/10.1140/epjd/e2016-70474-0.Taccogna F., Dilecce G. Non-equilibrium in low-temperature plasmas // Eur. Phys. J. D (2016) 70: 251. https://doi.org/10.1140/epjd/e2016-70474-0.Huges H.L., Baxter R.D., Phillips B. Dependence of MOS device radiation sensitivity on impurities // IEEE. 1972. № 5–19. P. 256–263.Huges H.L., Baxter R.D., Phillips B. Dependence of MOS device radiation sensitivity on impurities // IEEE. 1972. № 5–19. P. 256–263.Гольдфарб В.М. Оптическое излучение / Очерки физики и химии низкотемпературной плазмы. М.: Наука, 1971. С. 169–233.Gol'dfarb V.M. Opticheskoe izluchenie / Ocherki fiziki i himii nizkotemperaturnoj plazmy. M.: Nauka, 1971. S. 169–233. (in Russ.)Рогов А.В., Бурмакинский И.Ю. Исследование магнетронного разряда постоянного тока методом подвижного сеточного анода // Журнал технической физики. 2004. Т. 74, вып. 4. С. 27–30.Rogov A.V., Burmakinskij I.Ju. Issledovanie magnetronnogo razrjada postojannogo toka metodom podvizhnogo setochnogo anoda // Zhurnal tehnicheskoj fiziki. 2004. T. 74, vyp. 4. S. 27–30. (in Russ.)Гурин В.Н. Влияние проникающей плазмы на свойства диэлектрика и границы раздела полупроводникдиэлектрик при реактивном катодном распылении // Радиоэлектроника и информатика. 2001. № 4 (17). С. 29–32.Gurin V.N. Vlijanie pronikajushhej plazmy na svojstva dijelektrika i granicy razdela poluprovodnikdijelektrik pri reaktivnom katodnom raspylenii // Radiojelektronika i informatika. 2001. № 4 (17). S. 29–32. (in Russ.)

The authors declare that there are no conflicts of interest present.