Preview

Доклады БГУИР

Расширенный поиск

АНАЛИЗ УСЛОВИЙ ВОЗБУЖДЕНИЯ СВЧ-РАЗРЯДА НИЗКОГО ВАКУУМА В ПЛАЗМОТРОНЕ РЕЗОНАТОРНОГО ТИПА

Полный текст:

Аннотация

Проведена оценка эффективности использования объемных СВЧ-резонаторов для создания плазмы большого объема (более 4000 см3) низкого вакуума для целей групповой обработки изделий в технологии микроэлектроники. Результаты показали, что в резонаторной системе величина пробивной напряженности электрического поля порядка E0 ≈ 110 QUOTE В/см для низкого вакуума может достигаться уже при СВЧ-мощностях свыше 50 Вт. Применительно к условиям возбуждения и поддержания СВЧ-плазмы технологического назначения проведен анализ условий сохранения резонатором резонирующих свойств при возбуждении в нем плазмы объемом около 9000 см3 и помещении в СВЧ-разряд разного количества кремниевых пластин. Результаты расчетов показывают, что изменение добротности объемного резонатора, обусловленной частичным заполнением его полупроводниковыми пластинами, приводит к уменьшению общей добротности нагруженного резонатора до 2,5 раз. При этом, к примеру, для возбуждения СВЧ-разряда при общей добротности нагруженного резонатора Q ≈ 200 величина QUOTE E0 ≈ 110 В/см обеспечивается использованием СВЧ-магнетрона среднего уровня мощности ( Pвозд ≈ 650 Вт).

Об авторах

С. И. Мадвейко
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь


С. В. Бордусов
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь


М. С. Лушакова
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь


Список литературы

1. Бордусов С.В. Плазменные СВЧ технологии в производстве изделий электронной техники: монография / Под ред. А.П. Достанко. Минск, 2002.

2. Мак-Доналд А. Сверхвысокочастотный пробой в газах / Под ред. М.С. Рабиновича. М., 1969.

3. Кудреватова О.В. // Обзоры по электронной технике. Сер. 1. Электроника СВЧ. 1987. № 9 (1266). С. 40.

4. Мик Дж., Крэгc Дж. Электрический пробой в газах / Под ред. В.С. Комелькова. М., 1960.

5. СВЧ-энергетика. Т. 1: Генерирование. Передача. Выпрямление / Под ред. Э. Окресса. М., 1971.

6. Ширман Я.Д. Радиоволноводы и объемные резонаторы. М., 1959.

7. Potts H., Hugill J. // Plasma Sources Sсi. Techol. 2000. № 9. P.18-24.

8. Брандт А.А. Исследование диэлектриков на сверхвысоких частотах. М., 1963.

9. Гинзбург В.Л. Распространение электромагнитных волн в плазме. М., 1960.

10. Харвей А.Ф. Техника сверхвысоких частот / пер. с англ.; под ред. В.И. Сушкевича. М., 1965.

11. Самойлик С.С., Бондарев В.П. // Радиоэлектроника. Информатика. Управление. 2008. № 1. С. 32-37.

12. Свойства элементов: cправочник. Часть 1 / Под ред. Г.В. Самсонова. М., 1976.

13. СВЧ-энергетика: в 3 т. Т. 2: Применение энергии сверхвысоких частот в промышленности / Под ред. Э. Окресса. М., 1971.


Для цитирования:


Мадвейко С.И., Бордусов С.В., Лушакова М.С. АНАЛИЗ УСЛОВИЙ ВОЗБУЖДЕНИЯ СВЧ-РАЗРЯДА НИЗКОГО ВАКУУМА В ПЛАЗМОТРОНЕ РЕЗОНАТОРНОГО ТИПА. Доклады БГУИР. 2015;(8):44-50.

For citation:


Madveika S.I., Bordusau S.V., Lushakova M.S. ANALYSIS OF LOW VACUUM MICROWAVE DISCHARGE EXCITING CONDITIONS IN RESONATOR TYPE PLASMATRON. Doklady BGUIR. 2015;(8):44-50. (In Russ.)

Просмотров: 16


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1729-7648 (Print)