Preview

Доклады БГУИР

Расширенный поиск

АНАЛИЗ УСЛОВИЙ ВОЗБУЖДЕНИЯ СВЧ-РАЗРЯДА НИЗКОГО ВАКУУМА В ПЛАЗМОТРОНЕ РЕЗОНАТОРНОГО ТИПА

Аннотация

Проведена оценка эффективности использования объемных СВЧ-резонаторов для создания плазмы большого объема (более 4000 см3) низкого вакуума для целей групповой обработки изделий в технологии микроэлектроники. Результаты показали, что в резонаторной системе величина пробивной напряженности электрического поля порядка E0 ≈ 110 QUOTE В/см для низкого вакуума может достигаться уже при СВЧ-мощностях свыше 50 Вт. Применительно к условиям возбуждения и поддержания СВЧ-плазмы технологического назначения проведен анализ условий сохранения резонатором резонирующих свойств при возбуждении в нем плазмы объемом около 9000 см3 и помещении в СВЧ-разряд разного количества кремниевых пластин. Результаты расчетов показывают, что изменение добротности объемного резонатора, обусловленной частичным заполнением его полупроводниковыми пластинами, приводит к уменьшению общей добротности нагруженного резонатора до 2,5 раз. При этом, к примеру, для возбуждения СВЧ-разряда при общей добротности нагруженного резонатора Q ≈ 200 величина QUOTE E0 ≈ 110 В/см обеспечивается использованием СВЧ-магнетрона среднего уровня мощности ( Pвозд ≈ 650 Вт).

Для цитирования:


Мадвейко С.И., Бордусов С.В., Лушакова М.С. АНАЛИЗ УСЛОВИЙ ВОЗБУЖДЕНИЯ СВЧ-РАЗРЯДА НИЗКОГО ВАКУУМА В ПЛАЗМОТРОНЕ РЕЗОНАТОРНОГО ТИПА. Доклады БГУИР. 2015;(8):44-50.

For citation:


Madveika S.I., Bordusau S.V., Lushakova M.S. ANALYSIS OF LOW VACUUM MICROWAVE DISCHARGE EXCITING CONDITIONS IN RESONATOR TYPE PLASMATRON. Doklady BGUIR. 2015;(8):44-50. (In Russ.)

Просмотров: 3027


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 1729-7648 (Print)
ISSN 2708-0382 (Online)