Ионно-плазменные системы в технологии тонких пленок
https://doi.org/10.35596/1729-7648-2024-22-2-20-31
Аннотация
В статье изложены современные тенденции развития ионно-плазменных систем для ионной обработки и нанесения тонких пленок. Рассмотрены применение импульсного реактивного магнетронного распыления для формирования пленок оксида ванадия и зависимость параметров процесса от частотных характеристик электропитания, особенности и применение процесса прямого осаждения из ионного пучка для формирования ориентирующих покрытий из SiO2, СН, СN, CНF для жидкокристаллических дисплеев, износостойких покрытий из алмазоподобного углерода (α-С) и нитрида углерода (СNх). Показаны преимущества непрерывного режима электропитания сверхвысокочастотного магнетрона по сравнению с импульсным. Приведена математическая модель расчета магнетронных распылительных систем и процессов магнетронного распыления, представлены основные возможности разработанного программного комплекса Deposition.
Для цитирования:
Достанко А.П., Мадвейко С.И., Телеш Е.В., Мельников С.Н., Завадский С.М., Голосов Д.А. Ионно-плазменные системы в технологии тонких пленок. Доклады БГУИР. 2024;22(2):20-31. https://doi.org/10.35596/1729-7648-2024-22-2-20-31
For citation:
Dostanko A.P., Madveyko S.I., Telesh E.V., Melnikov S.N., Zavadski S.M., Golosov D.A. Plasma Systems in Thin Film Technology. Doklady BGUIR. 2024;22(2):20-31. (In Russ.) https://doi.org/10.35596/1729-7648-2024-22-2-20-31