ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКАЯ АЛЮМООКСИДНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ ДЛЯ ПРИБОРОВ СИЛОВОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ
Аннотация
Обсуждается электрохимическая алюмооксидная технология для формирования теплопроводящих подложек алюминия с диэлектрическим слоем анодного оксида алюминия с пробивными напряжениями выше 6 кВ. Разработанная технология может быть использована при создании практически любого радиоэлектронного устройства для работы в области температур от 10 до 473 К и частот гигагерцового диапазона.
Об авторах
Д. Л. Шиманович
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь
Беларусь
Шиманович Дмитрий Леонидович - заведующий лабораторией
220013, г. Минск, ул. Бровки, 6
тел. 375-17-293-88-50
В. А. Яковцева
Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники
Беларусь
Беларусь
к.т.н., ведущий научный сотрудник
Список литературы
1. Сокол В.А. Конструктивно-технологические методы создания гибридных микросхем на основе алюминия и его анодных оксидов: дисс. … докт. техн. наук. Минск, 1988.
2. Process for making multilevel interconnections of electronic components: pat. 5580825 US / V.A. Labunov, V.A. Sokol, V.M. Parkun, A.I. Vorob'yova; published: 31.03.1996.
3. Method of making multilevel interconnections of electronic parts: pat. 5880021 US / V.A. Labunov, V.A. Sokol, V.M. Parkun, A.I. Vorob'yova; published: 03.09.1999.
4. Multilevel interconnections of electronic components: pat. 6069070 US / V.A. Labunov, V.A. Sokol, Steve Lerner; published: 30.05.2000.
5. Masuda H., Fukuda K. Ordered metal nanohole arrays made by a two-step replication of honeycomb structures of anodic alumina / Science. 1995. Vol. 268. P. 1466–1468.
6. Шиманович Д.Л. Оптимизация методов формирования толстослойных диэлектрических покрытий на основе анодного оксида алюминия при электрохимическом анодировании широкоформатных Al-подложек и теплопроводящих оснований с радиаторами // Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. 2016. Т. 16, № 3. С. 116–119.
7. Шиманович Д.Л. Технологические режимы формирования дополнительных диэлектрических пленок на пористой поверхности алюмооксидных оснований и исследование электрофизических и теплофизических характеристик модифицированных покрытий // Фундаментальные проблемы радиоэлектронного приборостроения. 2017. Т. 17, № 2. С. 573–576.
8. Sokol V., Yakovtseva V. Electrolyte Hydrodynamics in Anodic Alumina Pores // Russian Microelectronics. 2014. Vol. 43, № 5. P. 358.
9. Express-Method for the Study of Electrolyte Anion Profiles in the Bulk of Dense Anodic Alumina Films. MRS Advances / V. A. Yakovtseva [et al.]. 2018. Vol. 3, iss. 11. Р. 569–574.
10. Технологические особенности сквозного двухстороннего анодирования при формировании алюмооксидных оснований для микрополосковых СВЧ-структур / Д.Л. Шиманович [и др.] // Сб. матер. Четвертого междисциплинарного междунар. науч. форума «Новые материалы и перспективные технологии». Москва, 2018. Т. 2. С. 771–774.
11. Исследование теплофизических и электрофизических свойств покрытий на основе анодного оксида алюминия, модифицированного вакуумно-осажденными диэлектрическими пленками / Д.Л. Шиманович [и др.] // Сб. матер. Четвертого междисциплинарного междунар. науч. форума «Новые материалы и перспективные технологии». Москва, 2018. Т. 2. С. 775–779.
12. Анодированные алюминиевые подложки для устройств гигагерцового диапазона / Д.Л. Шиманович [и др.] // Сб. трудов XXIV Междунар. науч.-техн. конф. «Радиолокация, навигация, связь». Воронеж, 2018. Т. 5. С. 422.
13. Report to East/West Technology Partners, Ltd. All Aluminum technology for multichip modules (MCM-A).
14. Final Acts of WARC-79. 1979. 984 p.
Рецензия
Для цитирования:
Шиманович Д.Л., Яковцева В.А. ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКАЯ АЛЮМООКСИДНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ ДЛЯ ПРИБОРОВ СИЛОВОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ. Доклады БГУИР. 2019;(3):5-11.
For citation:
Shimanovich D.L., Yakovtseva V.A. Electrochemical alumina technology for power electronics devices. Doklady BGUIR. 2019;(3):5-11. (In Russ.)
Просмотров: 401
Послать статью по эл. почте 