<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">bsuir</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Доклады БГУИР</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Doklady BGUIR</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">1729-7648</issn><issn pub-type="epub">2708-0382</issn><publisher><publisher-name>БГУИР</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">bsuir-713</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>Статьи</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>ТРЕХМЕРНОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ВЫХОДНЫХ ХАРАКТЕРИСТИК GaAs ТРАНЗИСТОРОВ С СУБМИКРОННОЙ ДЛИНОЙ ЗАТВОРА</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>THREE DIMENsION MODELLING OF OUTPUT CHARACTERISTICS OF GALLIUM ARSENIDE TRANSISTORS with submicron length of the gate</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Мищенко</surname><given-names>В. Н.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Mishchenka</surname><given-names>V. N.</given-names></name></name-alternatives><email xlink:type="simple">noemail@neicon.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib></contrib-group><aff xml:lang="ru" id="aff-1"><institution>Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники</institution><country>Belarus</country></aff><pub-date pub-type="collection"><year>2016</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>03</day><month>06</month><year>2019</year></pub-date><volume>0</volume><issue>6</issue><fpage>113</fpage><lpage>116</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Мищенко В.Н., 2019</copyright-statement><copyright-year>2019</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Мищенко В.Н.</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Mishchenka V.N.</copyright-holder><license xml:lang="ru" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.</license-p></license><license xml:lang="en" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/713">https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/713</self-uri><abstract><p>Рассмотрены вопросы моделирования основных выходных характеристик GaAs транзисторов диапазона КВЧ, которые находят широкое применение для создания приемопередающих устройств, усилителей и ряда других приборов. Для моделирования использовалась разработанная программа, в которой реализован многочастичный метод Монте-Карло совместно с решением уравнения Пуассона для трехмерной области приборной структуры. Особенностью моделируемых GaAs транзисторов явился учет особого профиля легирования подзатворной области структуры, который может быть сформирован с помощью ионной имплантации и позволяет улучшить выходные характеристики. Исследование трехмерной структуры из материала GaAs позволило учесть все геометрические размеры структуры и особенности формирования затвора и других контактных областей. В процессе моделирования анализировалось влияние прилагаемого постоянного смещения, особенностей формирования контактных областей структуры и ряд других параметров на выходные характеристики транзисторов.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>Modeling results of output static characteristics of gallium arsenide transistors for extreme high frequency range are given. Direct ion-implanted gallium arsenide transistors with the special profile under the gate are analyzed. Many particle Monte Carlo method with the solving of the Poisson equation are used for simulation of the three dimension structure with submicron length of the gate. Investigation of the gallium arsenide device provided the new results which connected with the influence of the geometrical size of the structure and features of gate construction to the output static characteristics. New modeling method of contact regions in device is presented for gallium arsenide transistors.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>транзистор</kwd><kwd>диапазоны СВЧ и КВЧ</kwd><kwd>арсенид галлия</kwd><kwd>метод Монте-Карло</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="en"><kwd>transistor</kwd><kwd>ultra high frequency and extreme high frequency ranges</kwd><kwd>gallium arsenide</kwd><kwd>Monte Carlo method</kwd></kwd-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Хокни Р., Иствуд Дж. Численное моделирование методом частиц. М.,1987.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Хокни Р., Иствуд Дж. Численное моделирование методом частиц. М.,1987.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Шур М. Современные приборы на основе арсенида галлия. М., 1991.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Шур М. Современные приборы на основе арсенида галлия. М., 1991.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Feng M., Laskar J. // IEEE Transactions on Electron Devices. 1993. V. ED-40. № 1. P. 9-17.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Feng M., Laskar J. // IEEE Transactions on Electron Devices. 1993. V. ED-40. № 1. P. 9-17.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Williams C.K., Glisson T.H., Hauser J. R. et. al. // Solid-State Electronics. 1989. Vol. 28, № 11. P. 1105-1109.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Williams C.K., Glisson T.H., Hauser J. R. et. al. // Solid-State Electronics. 1989. Vol. 28, № 11. P. 1105-1109.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Fawcett W., Boardman D.A., Swain S. // Journal of Physical Chemistry Solids. 1970. Vol. 31. P. 1963-1990.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Fawcett W., Boardman D.A., Swain S. // Journal of Physical Chemistry Solids. 1970. Vol. 31. P. 1963-1990.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Мищенко В.Н. // Докл. БГУИР. 2015. № 8 (94). C. 99-102.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Мищенко В.Н. // Докл. БГУИР. 2015. № 8 (94). C. 99-102.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Hockney R. W., Warriner R. A., Reiser M. // Electronic Letters. 1974. Vol. 10. № 23. P. 484-486.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Hockney R. W., Warriner R. A., Reiser M. // Electronic Letters. 1974. Vol. 10. № 23. P. 484-486.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Awano Y.,Tomizawa K., Hashizume N. // IEEE Transactions on Electron Devices. 1984. Vol. ED-33. № 4. P. 448-452.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Awano Y.,Tomizawa K., Hashizume N. // IEEE Transactions on Electron Devices. 1984. Vol. ED-33. № 4. P. 448-452.</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
