bsuirДоклады БГУИРDoklady BGUIR1729-76482708-0382БГУИРbsuir-598Research ArticleСтатьиОПТИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ТОНКИХ ПЛЕНОК ДИОКСИДА КРЕМНИЯ, ПОЛУЧЕННЫХ ПРЯМЫМ ОСАЖДЕНИЕМ ИЗ ИОННЫХ ПУЧКОВOPTICAL PERFORMANCES OF SILICON DIOXIDE THIN FILMS RECEIVED BY DIRECT DEPOSITION FROM ION BEAMSТелешЕ. В.TeleshE. V.noemail@neicon.ruДостанкоА. П.DostankoA. P.noemail@neicon.ruВашуровА. Ю.VashurovA. Y.noemail@neicon.ruБелорусский государственный университет информатики и радиоэлектроникиBelarus201503062019088185Copyright © Телеш Е.В., Достанко А.П., Вашуров А.Ю., 20192019Телеш Е.В., Достанко А.П., Вашуров А.Ю.Telesh E.V., Dostanko A.P., Vashurov A.Y.Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/598

Исследовано влияние парциального давления смеси моносилана и аргона и температуры подложки на оптические характеристики тонкопленочных покрытий из диоксида кремния, полученных прямым осаждением из ионных пучков на подложках из стекла и кремния с использованием торцевого холловского ускорителя в качестве источника ионов. Установлено, что увеличение парциального давления смеси моносилана и аргона приводит к росту скорости нанесения и коэффициента преломления и снижению оптического пропускания покрытий. Повышение температуры подложки способствовало улучшению оптических характеристик слоев диоксида кремния, что объясняется увеличением подвижности адатомов и стимулированием химического взаимодействия между кремнием и кислородом.

Influence of fractional pressure of monosilane and argon intermixture and substrate temperature on optical performances of thin-film coatings from the silicon dioxide, received by direct deposition from ion beams on substrates from a glass and silicon with use of the end Hall accelerator as a ion source is investigated. It is positioned, that the magnification of fractional pressure of monosilane and argon intermixture of results in to growth of deposition rate and a refractivity and decrease in an optical transmission of coatings. Rise in substrate temperature promoted improvement of optical performances of silicon dioxide layers that explains magnification of adatoms mobility and chemical interaction boost between silicon and oxygen.

ионные пучкипрямое осаждениеторцевой холловский ускорительдиоксид кремнияоптические покрытияоптические характеристикиReferencesДостанко А.П., Бордусов С.В., Залесский В.Г. и др. Технологические процессы и системы в микроэлектронике: плазменные, электронные, электронно-ионно-лучевые, ультразвуковые. Минск, 2009.Достанко А.П., Бордусов С.В., Залесский В.Г. и др. Технологические процессы и системы в микроэлектронике: плазменные, электронные, электронно-ионно-лучевые, ультразвуковые. Минск, 2009.Nagendra C., Thutupalli G. et al. // Bull. Mater. Sci. 1986. Vol. 8, № 3. P. 351-355.Nagendra C., Thutupalli G. et al. // Bull. Mater. Sci. 1986. Vol. 8, № 3. P. 351-355.Emiliani G, Scaglione S. // J. Vac. Sci. Technol. 1987. A 5(4). P. 1824-1827.Emiliani G, Scaglione S. // J. Vac. Sci. Technol. 1987. A 5(4). P. 1824-1827.Литвиненко В.В., Родионов В.Е., Родионова Н.А. и др. // Физическая инженерия поверхности. 2011. Т. 9, № 4. С. 346-349.Литвиненко В.В., Родионов В.Е., Родионова Н.А. и др. // Физическая инженерия поверхности. 2011. Т. 9, № 4. С. 346-349.Xiliang H., Jiehua W., Lingnan W. et al. // Appl. Surface Sci. 2008. Vol. 252, P. 1730-1735.Xiliang H., Jiehua W., Lingnan W. et al. // Appl. Surface Sci. 2008. Vol. 252, P. 1730-1735.Телеш Е.В., Вашуров А.Ю. // Матер. II Всеросс. научн. интернет. конф. с междунар. участием «Спектрометрические методы анализа». Казань, сентябрь 2014 г. С. 154-157.Телеш Е.В., Вашуров А.Ю. // Матер. II Всеросс. научн. интернет. конф. с междунар. участием «Спектрометрические методы анализа». Казань, сентябрь 2014 г. С. 154-157.

The authors declare that there are no conflicts of interest present.