Исследованы оптические характеристики тонких пленок нитрида алюминия, нанесенных методами реактивного магнетронного и реактивного ионно-лучевого распыления. Установлены зависимости показателя преломления и коэффициента поглощения пленок от процентного содержания азота в смеси рабочих газов. Выявлено, что метод реактивного магнетронного распыления позволяет наносить слои нитрида алюминия с более низким коэффициентом поглощения, чем метод реактивного ионно-лучевого распыления и с коэффициентом преломления близким к значению объемного образца.
This paper studies the optical characteristics of aluminum nitride thin films deposited by reactive magnetron and ion-beam sputtering. The dependences of the refractive index and absorption coefficient of the films on the percentage of nitrogen in the working gas mixture have been obtained. It was found that reactive magnetron sputtering allows the formation of AlN layers with a lower absorption coefficient than by reactive ion beam sputtering and with a refractive index close to the value appropriate of the bulk material.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.