Греков Игорь Александрович, инженер-электроник НИЛ 4.3 НИЧ, магистрант кафедры микро- и наноэлектроники
220013, г. Минск, ул. П. Бровки, 6тел. +375-33-667-93-28
Grekov I.A., Electronic Engineer at R&D Laboratory 4.3, Undergraduate at the Department of Micro- and Nanoelectronics
220013, Minsk, P. Brovka St., 6tel. +375-33-667-93-28
Янушкевич К.О., младший научный сотрудник НИЛ 4.3 НИЧ
220013, г. Минск, ул. П. Бровки, 6
Yanushkevich K.O., Junior Researcher at R&D Laboratory 4.3
220013, Minsk, P. Brovka St., 6
Чубенко Е.Б., к.т.н., доцент, ведущий научный сотрудник НИЛ 4.3 НИЧ
220013, г. Минск, ул. П. Бровки, 6
Chubenko E.B., Cand. of Sci., Associate Professor, Leading researcher at R&D Laboratory 4.3
220013, Minsk, P. Brovka St., 6
Бондаренко В.П., к.т.н., доцент, зав. НИЛ 4.3 НИЧ
220013, г. Минск, ул. П. Бровки, 6
Bondarenko V.P., Cand. of Sci, Associated Professor, Head of R&D Laboratory 4.3
220013, Minsk, P. Brovka St., 6
Методом электрохимического осаждения получены пленки оксида кобальта и оксида никеля на подложках монокристаллического кремния. Проведены исследования их структуры и состава методами рамановской микроскопии и сканирующей электронной микроскопии. Результаты исследования методом рамановской спектроскопии показали, что полученные пленки представляют собой поликристаллические структуры оксида кобальта (II, III) и оксида никеля (II), кристаллическое совершенство которых возрастает с увеличением температуры электролита. Методом сканирующей электронной микроскопии было установлено, что пленки оксида никеля отличаются гладкой поверхностью, в то время как оксид кобальта обладает более развитой структурой и состоит из кристаллов пластинчатой формы. Измеренная методом вольтамперометрии удельная электрохимическая емкость пленок оксида кобальта и оксида никеля, полученных в оптимальных условиях, составила соответственно 14,67 и 1634,08 Ф/г. Высокая удельная электрохимическая емкость пленки оксида никеля может быть использована для создания эффективных электрохимических приборов и устройств накопления энергии.
Films of cobalt oxide and nickel oxide on monocrystalline silicon substrates were obtained by electrochemical deposition from aqueous electrolyte solutions. Their structure and composition were studied by Raman microscopy and scanning electron microscopy. The results of the study by Raman spectroscopy showed that the obtained films are polycrystalline structures of cobalt (II, III) oxide and nickel (II) oxide, the crystalline perfection of which increases with an increase in the electrolyte temperature. It was found by scanning electron microscopy that nickel oxide films have a smoother surface, while cobalt oxide has a more developed structure consisting of lamellar crystals. The specific electrochemical capacity of cobalt oxide and nickel oxide films obtained under optimal conditions, measured by voltammetry, was 14.67 and 1634.08 F/g, respectively. The high specific electrochemical capacity of a nickel oxide film can be used to create efficient electrochemical devices and energy storage devices.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.