<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">bsuir</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Доклады БГУИР</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Doklady BGUIR</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">1729-7648</issn><issn pub-type="epub">2708-0382</issn><publisher><publisher-name>БГУИР</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="doi">10.35596/1729-7648-2021-19-1-5-10</article-id><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">bsuir-2986</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>ЭЛЕКТРОНИКА, РАДИОФИЗИКА, РАДИОТЕХНИКА, ИНФОРМАТИКА</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="en"><subject>ELECTRONICS, RADIOPHYSICS, RADIOENGINEERING, INFORMATICS</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>Исследование процесса реактивного ионно-лучевого распыления арсенида галлия с использованием оптической эмиссионной спектроскопии</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Investigation of the process of reactive ion-beam sputtering of gallium arsenide using optical emission spectroscopy</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Телеш</surname><given-names>Е. В.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Тelesh</surname><given-names>E. V.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Телеш Евгений Владимирович - старший преподаватель кафедры электронной техники и технологии</p><p>220013, г. Минск, ул. П. Бровки, 6</p><p>тел. +375-17-293-85-81</p></bio><bio xml:lang="en"><p>Telesh Evgeniy Vladimirovich - Senior Lecturer of the Electronic Technique and Technology Department</p><p>220013, Minsk, P. Brovka str., 6</p><p>tel. +375-17-293-85-81</p></bio><email xlink:type="simple">etelesh@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff-1"><aff xml:lang="ru"><institution>Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники</institution></aff><aff xml:lang="en"><institution>Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics</institution></aff></aff-alternatives><pub-date pub-type="collection"><year>2021</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>23</day><month>02</month><year>2021</year></pub-date><volume>19</volume><issue>1</issue><fpage>5</fpage><lpage>10</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Телеш Е.В., 2021</copyright-statement><copyright-year>2021</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Телеш Е.В.</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Тelesh E.V.</copyright-holder><license xml:lang="ru" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.</license-p></license><license xml:lang="en" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/2986">https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/2986</self-uri><abstract><p>Целью данной работы являлось исследование процесса -реактивного ионно лучевого распыления арсенида галлия с использованием оптического эмиссионного анализа плазмы в области мишени для определения оптимальных условий формирования собственных оксидов GaAs. Источником ионов являлся плазмотрон на базе ускорителя с анодным слоем, который генерировал поток ускоренных ионов аргона и кислорода с энергией 400–1200 эВ. Мишень была изготовлена из арсенида галлия, легированного теллуром. При распылении GaAs ионами Ar+ в спектре обнаружены интенсивные линии GaI (2874,2 Å, 2943,6 Å, 4033,0 Å и 4172,1 Å), атомарного аргона ArI, ионов аргона, а также линии FeI.тПоявление линий железа может быть объяснено распылением полюсных наконечников магнитной системы ионного источника. Увеличение ускоряющего напряжения с 1 до 3 кВ приводит к росту интенсивности пиков атомарного галлия GaI (4172,1 Å) в 2,38 раза, линии GaI (4033,0 Å) – в 3,25 раза, линии GaI (2943,6 Å) – в 3,4 раза, линии GaI (2874,2 Å) – в 5 раз. Установлено, что увеличение парциального давления кислорода приводит к резкому уменьшению пиков GaI (4033,0 Å) и GaI (4172,1 Å) из-за химического взаимодействия галлия и кислорода. Распыление в чистом кислороде снижает интенсивность этих пиков в 8 и 5 раз соответственно. Интенсивность пиков атомарного галлия GaI (2874,2 Å) и GaI (2943,6 Å) снизилась в 2 и 1,78 раза соответственно. При наличии положительного потенциала на мишени интенсивность всех линий атомарного галлия монотонно снижается с увеличением потенциала. В эмиссионном спектре были обнаружены линии атомарного кислорода ОI (7774,2 Å) и молекулярных положительных ионов O+2 (6418,7 Å, 6026,4 Å, 5631,9 Å и 5295,7 Å). При наличии положительного потенциала на мишени наблюдалось монотонное снижение интенсивности вышеуказанных линий кислорода. Это свидетельствует об интенсификации процессов химического взаимодействия кислорода с элементами мишени и, соответственно, о снижении свободных активных частиц кислорода.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>The aim of this work was to study the process of reactive ion-beam sputtering of gallium arsenide using optical emission analysis of plasma in the target region to determine the optimal conditions for the formation of intrinsic GaAs oxides. The ion source was a plasmatron based on an anode layer accelerator (UAS), which generated a stream of accelerated argon and oxygen ions with an energy of 400–1200 eV. The target was made from tellurium doped gallium arsenide. Intense GaI lines (2874.2 Å, 2943.6 Å, 4033.0 Å and 4172.1 Å), atomic argon ArI, argon ions, and also FeI lines were detected in the spectrum upon sputtering of GaAs by Ar+ ions. The appearance of iron lines can be explained by the sputtering of the pole tips of the magnetic system of the ion source. An increase in the accelerating voltage from 1 to 3 kV leads to an increase in the intensity of the peaks of atomic gallium GaI (4172.1 Å) by 2.38 times, the GaI line (4033.0 Å) by 3.25 times, the GaI line (2943.6 Å) 3.4 times, GaI lines (2874.2 Å) 5 times. It was found that an increase in the partial pressure of oxygen leads to a sharp decrease in the peaks of GaI (4033.0 Å) and GaI (4172.1 Å) due to the chemical interaction of gallium and oxygen. Sputtering in pure oxygen reduces the intensity of these peaks by 8 and 5 times, respectively. The intensities of the peaks of atomic gallium GaI (2874.2 Å) and GaI (2943.6 Å) decreased in 2 and 1.78 times, respectively. In the presence of a positive potential on the target, the intensity of all lines of atomic gallium monotonically decreases with increasing potential. In the emission spectrum, lines of atomic oxygen OI (7774.2 Å) and molecular positive ions O+2 (6418.7 Å, 6026.4 Å, 5631.9 Å and 5295.7 Å) were detected. In the presence of a positive potential on the target, a monotonic decrease in the intensity of the above oxygen lines was observed. This indicates an intensification of chemical interaction of oxygen with target elements and, accordingly, a decrease in the free active oxygen particles.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>собственные оксиды арсенида галлия</kwd><kwd>реактивное ионно-лучевое распыление</kwd><kwd>оптическая эмиссионная спектроскопия</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="en"><kwd>intrinsic oxides of gallium arsenide</kwd><kwd>reactive ion beam sputtering</kwd><kwd>optical emission spectroscopy</kwd></kwd-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Passlack M., Hong M., Mannaerts J.P. C-V and G-V characterization-of in-situ fabricated Ga[2]O[3]– GaAs interfaces for inversion/accumulation-device and surface passivation applications. Solid-State Electronics. 1996; 39:8:1133-1136.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Passlack M., Hong M., Mannaerts J.P. C-V and G-V characterization-of in-situ fabricated Ga[2]O[3]–GaAs interfaces for inversion/accumulation-device and surface passivation applications. Solid-State Electronics. 1996;39:8:1133-1136.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Томина Е.В., Миттова И.Я., Сухочев А.С. Термическое окисление арсенида-галлия с поверхностью, модифицированной оксидами переходных металлов. Физика и химия стекла. 2010;36:2:297-306.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Tomina Y.V., Mittova I.Y, Sukhochev A.S. [Thermal oxidation of gallium arsenide with a surface modified by transition metal oxides]. Fizika i khimiya stekla = Physics and chemistry of glass. 2010;36:2:297-306. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Агеев О.А., Солодовник М.С., Смирнов В.А. Исследование режимов локального анодного окисления эпитаксиальных структур арсенида галлия. Известия ЮФУ. Технические науки. 2011;4(117):8-13.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Ageyev O.A., Solodovnik M.S., Smirnov V.A. [Investigation of the modes of local anodic oxidation of epitaxial structures of gallium arsenide]. Izvestiya YUFU. Tekhnicheskiye nauki = News SFU. Technical science. 2011;4(117):8-13. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Лежава Н.Г., Бибилашвили А.П., Герасимов А.Б. Применение собственного оксида арсенида галлия для создания изоляции активных элементов интегральных схем на GaAs. Письма в ЖТФ. 2005;31:2:63-66.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Lezhava N.G., Bibilashvili A.P., Gerasimov A.B. [The use of intrinsic gallium arsenide oxide to create insulation of active elements of integrated circuits on GaAs]. Pis'ma v ZHTF = Letters to the JTP. 2005;31:2:63-66. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Достанко А.П., Бордусов С.В., Залесский В.Г.; под ред. Достанко А.П. Технологические процессы и системы в микроэлектронике: плазменные, электронные, электронно-ионно-лучевые, ультразвуковые. Минск: Бестпринт; 2009.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Dostanko A.P., Bordusov S.V., Zalesskiy V.G.; pod red. Dostanko A.P. [Technological processes and systems in microelectronics: plasma, electronic, electron-ion beam, ultrasonic]. Minsk: Bestprint; 2009. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Достанко А.П., Кундас С.П., Босяков М.Н.; под ред. Достанко А.П. Плазменные процессы в производстве изделий электронной техники. В 3-х т. Т. 1. Минск: ФУАинформ; 2000.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Dostanko A.P., Kundas C.P., Bosyakov M.N.; pod red. Dostanko A.P. [Plasma processes in the manufacture of electronic products]. V 3-h t. T. 1. Minsk: FUAinform; 2000. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Достанко А.П., Русецкий А.М., Ануфриев Л.П., Бордусов С.В., Голосов Д.А., Завадский С.М., Ковальчук Н.С., Коробко А.О., Ланин В.Л., Мадвейко С.И., Телеш Е.В.; под ред. Достанко А.П., Ланина В.Л. Интегрированные технологии микро- и наноструктурированных слоев: монография. Минск: Бестпринт; 2013.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Dostanko A.P., Rusetskij A.M., Anufriev L.P., Bordusov S.V., Golosov D.A., Zavadskij S.M., Kovalchuk N.S., Korobko A.O., Lanin V.L, Madvejko S.I., Telesh Е.V.; pod red. Dostanko A.P., Lanina V.L. [Integrated technology of micro- and nanostructured layers: monograph]. Minsk: Bestprint; 2013. (In Russ.)</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
