<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">bsuir</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Доклады БГУИР</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Doklady BGUIR</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">1729-7648</issn><issn pub-type="epub">2708-0382</issn><publisher><publisher-name>БГУИР</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">bsuir-281</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>Статьи</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ МИКРО- И НАНОЭЛЕКТРОННЫХ УСТРОЙСТВ</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>ELECTROCHEMICAL TECHNOLOGY FOR MICRO- AND NANOELECTRONIC DEVICES</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Сокол</surname><given-names>В. А.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Sokol</surname><given-names>V. A.</given-names></name></name-alternatives><email xlink:type="simple">noemail@neicon.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Костюченко</surname><given-names>С. А.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Kostyichenko</surname><given-names>S. A.</given-names></name></name-alternatives><email xlink:type="simple">noemail@neicon.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib></contrib-group><aff xml:lang="ru" id="aff-1"><institution>Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники</institution><country>Belarus</country></aff><pub-date pub-type="collection"><year>2014</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>03</day><month>06</month><year>2019</year></pub-date><volume>0</volume><issue>2</issue><fpage>14</fpage><lpage>22</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Сокол В.А., Костюченко С.А., 2019</copyright-statement><copyright-year>2019</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Сокол В.А., Костюченко С.А.</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Sokol V.A., Kostyichenko S.A.</copyright-holder><license xml:lang="ru" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>Данная работа распространяется под лицензией Creative Commons Attribution 4.0.</license-p></license><license xml:lang="en" license-type="creative-commons-attribution" xlink:href="https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/" xlink:type="simple"><license-p>This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 License.</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/281">https://doklady.bsuir.by/jour/article/view/281</self-uri><abstract><p>Приведены результаты работ по созданию электрохимической технологии микро- и наноэлектронных устройств, в основном гибридных интегральных микросхем и многокристальных модулей. Рассмотрены технологии алюминиевых оснований, многоуровневых систем межсоединений и алюминиевых корпусов для гибридных интегральных схем и сверхбольших интегральных схем. Представлены результаты работ по созданию электрохимической технологии изготовления наноэлектронных устройств, таких как матричные управляемые автоэмиссионные катоды и транзисторы, работающие на основе квантового эффекта одноэлектронного переноса.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>Results of electrochemical technology creating of micro- and nanoelectronics facilities mainly hybrid microcircuits and multichip packages are cited. Aluminium substrates, multiple-level system of interconnections and aluminium frames for VLSI-circuits technologies are viewed. Results of electro-chemical technology creating of nanoelectronics facilities such as operated matrix field-emission cath-odes and transistors, based on single-electron transport quantum effect are presented.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>анодирование</kwd><kwd>алюминий</kwd><kwd>пористый оксид алюминия</kwd><kwd>наноэлектронные устройства</kwd></kwd-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ создания двухслойной планарной металлизациии / Авторское свидетельство СССР.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ создания двухслойной планарной металлизациии / Авторское свидетельство СССР.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ создания многоуровневых планарных структур интегральных микросхем / Авторское свидетельство СССР № 701404.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ создания многоуровневых планарных структур интегральных микросхем / Авторское свидетельство СССР № 701404.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Электрохимическая ячейка для анодирования металлических пленок на диэлектрических подложках / Авторское свидетельство СССР № 669767</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Электрохимическая ячейка для анодирования металлических пленок на диэлектрических подложках / Авторское свидетельство СССР № 669767</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Интегральная схема / Авторское свидетельство СССР № 685068.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Интегральная схема / Авторское свидетельство СССР № 685068.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Интегральная микросхема / Авторское свидетельство СССР № 683527.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Интегральная микросхема / Авторское свидетельство СССР № 683527.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ создания многоуровневой планарной металлизации / Авторское свидетельство СССР № 784634.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ создания многоуровневой планарной металлизации / Авторское свидетельство СССР № 784634.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ создания многоуровневой металлизации / Авторское свидетельство СССР № 766737.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ создания многоуровневой металлизации / Авторское свидетельство СССР № 766737.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ изготовления гибридной интегральной микросхемы / Авторское свидетельство СССР № 904481.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ изготовления гибридной интегральной микросхемы / Авторское свидетельство СССР № 904481.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit9"><label>9</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ изготовления гибридной интегральной микросхемы / Авторское свидетельство СССР № 880194.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ изготовления гибридной интегральной микросхемы / Авторское свидетельство СССР № 880194.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit10"><label>10</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ изготовления алюминиевой подложки для гибридной интегральной микросхемы / Авторское свидетельство СССР № 967253.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ изготовления алюминиевой подложки для гибридной интегральной микросхемы / Авторское свидетельство СССР № 967253.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit11"><label>11</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Интегральная микросхема / Авторское свидетельство СССР № 976814.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Интегральная микросхема / Авторское свидетельство СССР № 976814.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit12"><label>12</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ изготовления многослойной печатной обмотки / Авторское свидетельство СССР № 964881.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ изготовления многослойной печатной обмотки / Авторское свидетельство СССР № 964881.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit13"><label>13</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А., Костюченко С.А. // Вопросы оборонной техники. Сб. № 35. Сер. 22. 1982.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А., Костюченко С.А. // Вопросы оборонной техники. Сб. № 35. Сер. 22. 1982.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit14"><label>14</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Электролит для анодирования металлов / Авторское свидетельство СССР № 1080521.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Электролит для анодирования металлов / Авторское свидетельство СССР № 1080521.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit15"><label>15</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ создания многоуровневой металлизации / Авторское свидетельство СССР № 1080824.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ создания многоуровневой металлизации / Авторское свидетельство СССР № 1080824.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit16"><label>16</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А., Костюченко С.А. // Спецтехника средств связи. Сер. ТПО (ДСП). 1983.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А., Костюченко С.А. // Спецтехника средств связи. Сер. ТПО (ДСП). 1983.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit17"><label>17</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ формирования многоуровневой системы межсоединений на металлической подложке / Авторское свидетельство СССР № 1209012.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ формирования многоуровневой системы межсоединений на металлической подложке / Авторское свидетельство СССР № 1209012.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit18"><label>18</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ создания многоуровневой металлизации / Авторское свидетельство СССР № 1373236.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ создания многоуровневой металлизации / Авторское свидетельство СССР № 1373236.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit19"><label>19</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ изготовления гибридных интегральных микросхем / Авторское свидетельство СССР № 1445547.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ изготовления гибридных интегральных микросхем / Авторское свидетельство СССР № 1445547.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit20"><label>20</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ изготовления алюминиевых подложек / Авторское свидетельство СССР № 1442057.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ изготовления алюминиевых подложек / Авторское свидетельство СССР № 1442057.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit21"><label>21</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ создания многоуровневой металлизации / Авторское свидетельство СССР № 1436772.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ создания многоуровневой металлизации / Авторское свидетельство СССР № 1436772.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit22"><label>22</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А., Короткевич А.В., Костюченко С.А. Способ изготовления алюминиевых подложек / Авторское свидетельство СССР № 1530074.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А., Короткевич А.В., Костюченко С.А. Способ изготовления алюминиевых подложек / Авторское свидетельство СССР № 1530074.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit23"><label>23</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ изготовления резистивно-проводниковой микроплаты / Авторское свидетельство СССР № 1609388.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ изготовления резистивно-проводниковой микроплаты / Авторское свидетельство СССР № 1609388.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit24"><label>24</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ формирования двухуровневой металлизации / Авторское свидетельство СССР № 1679910.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ формирования двухуровневой металлизации / Авторское свидетельство СССР № 1679910.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit25"><label>25</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sokol V. Process for making multilevel interconnections of electronic components / Патент США № 5580825.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sokol V. Process for making multilevel interconnections of electronic components / Патент США № 5580825.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit26"><label>26</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sokol V. and coauthors // Appl. Phys.A., Materials Sci. and Processing. 1998. Vol. 67. P. 487-492.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sokol V. and coauthors // Appl. Phys.A., Materials Sci. and Processing. 1998. Vol. 67. P. 487-492.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit27"><label>27</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sokol V. Method of making multilevel interconnections of electronic parts / Патент США US5880021.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sokol V. Method of making multilevel interconnections of electronic parts / Патент США US5880021.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit28"><label>28</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sokol V. // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. 1999. B 147. P. 332-336.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sokol V. // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. 1999. B 147. P. 332-336.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit29"><label>29</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sokol V. Multilevel interconnections of electronic components / Патент США US6069070.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sokol V. Multilevel interconnections of electronic components / Патент США US6069070.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit30"><label>30</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sokol V. // Micro Materials'2000. P. 54.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sokol V. // Micro Materials'2000. P. 54.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit31"><label>31</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sokol V. // Technische Universitat Chemnitz. 2001. P. 237-240.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sokol V. // Technische Universitat Chemnitz. 2001. P. 237-240.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit32"><label>32</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 2002. № 2. С. 40-45.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 2002. № 2. С. 40-45.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit33"><label>33</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 2003. № 2. С. 40-41.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 2003. № 2. С. 40-41.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit34"><label>34</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sokol V. and coauthors // Applied Surface Science. 2004. P. 215-225.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sokol V. and coauthors // Applied Surface Science. 2004. P. 215-225.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit35"><label>35</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ изготовления резистивно-коммутационной тонкопленочной интегральной микросхемы / Патент РБ № 6613.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ изготовления резистивно-коммутационной тонкопленочной интегральной микросхемы / Патент РБ № 6613.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit36"><label>36</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Устройство для получения диэлектрических подложек методом анодирования / Патент РБ № 6461.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Устройство для получения диэлектрических подложек методом анодирования / Патент РБ № 6461.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit37"><label>37</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Трехэлектродный активный элемент и способ его изготовления / Патент РБ № 7431.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Трехэлектродный активный элемент и способ его изготовления / Патент РБ № 7431.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit38"><label>38</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Способ изготовления многоуровневой системы микроэлектронных межсоединений на основе алюминия и его анодных оксидов / Патент РБ № 17099.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Способ изготовления многоуровневой системы микроэлектронных межсоединений на основе алюминия и его анодных оксидов / Патент РБ № 17099.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit39"><label>39</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Vryblevsky I., Parkoun V., Sokol V. et. al.// Applied Surface Science. 2005. Vol. 252. № 1. P. 227-233.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Vryblevsky I., Parkoun V., Sokol V. et. al.// Applied Surface Science. 2005. Vol. 252. № 1. P. 227-233.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit40"><label>40</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Sokol V. and coauthors // Zonal of the University of Applied Science Mittweida. 2005. № 11. P. 38-41.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Sokol V. and coauthors // Zonal of the University of Applied Science Mittweida. 2005. № 11. P. 38-41.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit41"><label>41</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Электрохимическая технология гибридных интегральных микросхем. Минск, 2004.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Электрохимическая технология гибридных интегральных микросхем. Минск, 2004.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit42"><label>42</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А., Гомолко П.В. // Докл. БГУИР. 2005. № 2 (10). С. 73-78.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А., Гомолко П.В. // Докл. БГУИР. 2005. № 2 (10). С. 73-78.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit43"><label>43</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А. Анодные оксиды алюминия. Минск, 2011.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А. Анодные оксиды алюминия. Минск, 2011.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit44"><label>44</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Сокол В.А., Турцевич А.С., Белоус А.И. // Электронная промышленность. 2012. № 1. С. 44-48.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Сокол В.А., Турцевич А.С., Белоус А.И. // Электронная промышленность. 2012. № 1. С. 44-48.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit45"><label>45</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Воробьева А.И., Сокол В.А. // Докл. БГУИР. 2012. № 3 (65). С. 6-11.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Воробьева А.И., Сокол В.А. // Докл. БГУИР. 2012. № 3 (65). С. 6-11.</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
